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    氨水背景技術!德州氨水告訴你!

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    氨水背景技術!德州氨水告訴你!

    發布日期:2019-03-28 作者:德州金航 點擊:

          氨氣是半導體制程中重要的材料,以發光二極管(LED)為例,純氨是制造LED的氮化鎵晶體的重要材料,一般LED廠使用的純氨雖為6N5(99.99995%)以上的等級,但純氨仍無法避免含有微量的有機物,例如丙酮、異丙醇、甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、丙烯等。當LED廠以MOCVD制程在高溫下(750~1050℃)合成氮化鎵時,有機物將會裂解為烷類、烯類、一氧化碳、二氧化碳、碳粒、烯酮等的衍生雜質。
      在另一方面,每提供100公斤的純氨進入LED制程,將會有80公斤的氨氣被排出制程,而一般排出制程的氨氣濃度約為10%~15%,并包括氫氣、氮氣、甲烷、微量氣體(一氧化碳、二氧化碳、烯酮)及粒狀物(碳粒及金屬鎵),一般大都將這些排出的氨氣視為廢棄物而不再利用。排出的廢氨氣通常會被導入水中,并形成氨水排出。
    氨水處理裝置,其特征在于,它包括:
      多個板槽,以層迭的方式設置,該板槽包括一板體及至少一側板,其中,該板體包括一上表面及一下表面,而該側板設置于該板體的該上表面,使得該側板與該板體的該上表面之間形成至少一容置槽;
      一外殼體,包括多個殼板、至少一液體輸入端、至少一液體輸出端及至少一氣體輸出端,該多個殼板之間具有一容置空間,該層迭設置的板槽設置于該容置空間內,并將該容置空間區隔成為流動空間,其中,該液體輸入端、該液體輸出端及該氣體輸出端流體連通該流動空間,且該流體輸入端的上方及下方皆設置該板槽;

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